一、反渗透膜元件的污染物：

在正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到在给水中可能存在的悬浮物质或难溶物质的污染，这些污染物中最常见的为碳酸钙垢、硫酸(化学式：H2SO4)钙垢、金属氧(Oxygen)化（oxidation)物垢、硅沉积物及有机或生物沉积物。

污染物的性质及污染速度与给水条件有关，污染是慢慢发展的，如果不早期采取措施（指针对问题的解决办法)，污染将会在相对短的时间内损坏膜元件的性能。

定期检测系统整体性能是确认膜元件发生污染的一个好方法，不同的污染物会对膜元件性能造成不同程度的损害。

二、反渗透膜元件的污染物的去除

污染物的去除可通过化学清洗和物理冲洗来实现，有时亦可通过改变运行条件来实现，作为一般的原则，当下列情形之一发生时应进行清洗。

1、在正常压力下如产品水流量降至正常值的10～15%。

2、为了维持正常的产品水流量，经温度校正后的给水压力增加了10～15%。

3、产品水质降低10～15%。盐透过率增加10～15%。

4、使用压力增加10～15%

5、RO各段间的压差增加明显（也许没有仪表来监测这一迹象）。

三、反渗透膜元件的常见污染物及其去除方法：

1、碳酸钙垢

在阻垢剂添加系统出现故障时或加酸系统出现而导致给水PH升高，那么碳酸钙就有可能沉积，出来，应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生，以防止生长的晶体对膜表面产生损伤，如早期发现碳酸钙垢，可以用降低（reduce)给水PH至3.0～5.0之间运行1～2小时的方法去除。对沉淀时间更长的碳酸钙垢，则应采用柠檬酸清洗液进行循环清洗或通宵浸泡。

注：应确保任何清洗液的PH不要低于2.0，盃则可能会RO膜元件造成损害，特别是在温度较高时更应注意，的PH不应高于11.0。

查使用氨水来提高PH，使用硫酸或盐酸(HCl)来降低（reduce)PH值。

2、硫酸钙垢

清洗液是将硫酸钙（Ca)垢从反渗透膜(原理:反渗透技术原理)表面去除掉的方法。

3、金属氧化（oxidation)物垢

可以使用上面所述的去除碳(C)酸钙（Ca)垢的方法，很容易地去除沉积下来的氢氧(Oxygen)化物（例如氢氧化铁(Fe?O?)）。

4、硅垢

对于不是与金属化物或有机物共生的硅(silicon)垢，一般只有通过专业水处理的清洗方法才能将他们去除，有关的详细方法请与水处理专业公司联系。

5、有机沉积物

有机沉积（sedimentation)物（例如微生物粘泥或霉斑）可以使用清洗液3去除，为了防止再繁殖，可使用经认可的杀菌（fungus)溶液在系统中循环、浸泡，一般需较长时间浸泡才能有效，如反渗透（Osmosis)装置停用三天时，采用消毒处理，请与水处理专业公司会商以确定适宜的杀菌剂。

6、清洗液

清洗反渗透（Osmosis)膜元件时建议采用水处理专用的清洗液。确定清洗前对污染物进行化学分(credit)析十分重要的，对分析结果的详细分析比较，可保证选择的清洗剂及清洗方法，应记录每次清洗时清洗方法及获得的清洗效果，为在特定给水条件下，找出的清洗方法提供依据。